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      1. 產品中心

        Products

        ICP干法刻蝕設備
        產品概述: Plasma-Therm是致力于RIE/ICP的世界知名設備提供商, 產品涵蓋2”~ 8”主流ICP干法刻蝕工藝。銷售聯系方式:李安芃 18918393270。
        產品描述:

        Plasma-Therm是致力于RIE/ICP的世界知名設備提供商, 產品涵蓋2”~ 8”主流ICP干法刻蝕工藝,廣泛應用于三五族(GaAs / SiC )、GaN功率及射頻器件、VCSELs器件等化合物產業,以及MEMS和Si基半導體產業。

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        儀器簡介:

        1.配置:2”~8” 手動 / 半自動 / 全自動(片盒對片盒) /全自動多腔(片盒對片盒)

        2.領域 :三五族(GaAs / SiC),GaN功率及射頻器件、VCSELs的器件等化合物產業及MEMS和Si基半導體產業等

        3.制程 : RIE / ICP

        儀器特點:

        1.刻蝕速率可調

        2.低損傷控制(專利技術)

        3.側壁的角度和粗糙度控制技術

        4.較佳的刻蝕均勻性控制

        5.較佳的批次均勻性控制

        6.超長的平均開腔清潔時間間隔以及精準靈敏的刻蝕斷點監測技術

        應用領域:

        1.三五族化合物半導體(GaAs / SiC,GaN功率及射頻器件,InP器件,InSb銻化物器件)

        2.MEMS微機電

        3.濾波器器件

        4.石英基底的光通訊器件

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